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氮化鎵器件和硅超結(jié)MOS管損耗分析(硬開關(guān))
Release date:2023-04-13 Writer: Category:Technical Article Views:592次

相同的擊穿電壓,通態(tài)電阻及工作頻率下,根據(jù)以下?lián)p耗公式:

 

損耗分類

符號(hào)

超結(jié)MOS

氮化鎵

備注

導(dǎo)通損耗

Pcond

相同

相同

相同的通態(tài)電阻Rdson 

開關(guān)損耗

Psw

更高

更低

氮化鎵有更小的QGS2和QGD

輸出電容Coss損耗

Pcoss

更高

更低

氮化鎵的Coss更小

門級(jí)驅(qū)動(dòng)損耗

Pgate

更高

更低

氮化鎵有更小的門級(jí)驅(qū)動(dòng)電壓

反向?qū)〒p耗

Psd

更低

更高

氮化鎵的Vsd更高

反向恢復(fù)損耗

Prr

更高

沒有

氮化鎵沒有反向恢復(fù)電荷Qrr

硬開關(guān)總損耗

Phard_sw

更高

更低

氮化鎵硬開關(guān)總損耗比超結(jié)MOS更低